CVD/PECVD氣相沉積爐簡(jiǎn)介
CVD/PECVD氣相沉積爐，采用等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)，為各種金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等材料提供卓越的薄膜沉積解決方案，廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋微電子、光電、平板顯示、儲(chǔ)能等多個(gè)行業(yè)。
CVD/PECVD氣相沉積爐特點(diǎn)
高溫極限：達(dá)到1200℃(通過(guò)HRE電阻絲加熱)，滿足高溫沉積需求。
智能控制：配備50段可編程自動(dòng)控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)控制。
安全防護(hù)：具備超溫保護(hù)和漏電自動(dòng)斷電功能，確保操作安全。
cvd氣相沉積
高效散熱：雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)和50℃以下表面溫度，保障設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。
卓越保溫：爐膛采用日本技術(shù)真空吸附成型的氧化鋁多晶纖維，保溫效果出眾。
高品質(zhì)密封：采用304不銹鋼KF快卸密封法蘭，確保工藝過(guò)程的密封性。
快速升溫：升溫速率不超過(guò)20℃/分，提高生產(chǎn)效率。
精準(zhǔn)控溫：控溫精度達(dá)到±1℃，確保薄膜質(zhì)量。
高沉積速率：射頻輝光技術(shù)使沉積速率高達(dá)10?/S，大幅提升生產(chǎn)效率。
pecvd氣相沉積爐
大面積均勻性：通過(guò)多點(diǎn)射頻饋入技術(shù)和特殊氣路分布，實(shí)現(xiàn)薄膜均勻性8%的優(yōu)異指標(biāo)。
高一致性：遵循半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)計(jì)理念，基片間偏差低于2%，確保產(chǎn)品質(zhì)量一致性。
工藝穩(wěn)定：設(shè)備高度穩(wěn)定，保證工藝的連續(xù)性和穩(wěn)定性。
高效真空系統(tǒng)：標(biāo)配直連式真空泵，極限真空度可達(dá)10Pa，確保高質(zhì)量沉積環(huán)境。
精準(zhǔn)流量控制：標(biāo)配三路質(zhì)量流量計(jì)，實(shí)現(xiàn)氣體流量的精確控制。
強(qiáng)大射頻電源：等離子射頻電源功率高達(dá)500W，輸出頻率穩(wěn)定在13.56MHz±0.005%，適應(yīng)不同工藝需求。
pecvd
可選配件
高端真空系統(tǒng)：根據(jù)客戶需求，提供最高真空度可達(dá)7x10-4Pa的分子泵真空系統(tǒng)。
混氣系統(tǒng)：提供混氣系統(tǒng)及質(zhì)量流量計(jì)，滿足復(fù)雜氣體混合和流量控制需求。
高清觸控屏：可選高清觸控屏，實(shí)現(xiàn)更直觀、便捷的操作體驗(yàn)。
技術(shù)參數(shù)
| 產(chǎn)品名稱 | CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) |
| 產(chǎn)品型號(hào) | BR-CVD/PECVD |
| 滑道 | 帶滑道，可滑動(dòng)爐膛，實(shí)現(xiàn)快速升溫或冷卻功能 |
| 加熱區(qū)長(zhǎng)度 | 400mm 單溫區(qū)/雙溫區(qū) |
| 爐管尺寸 | 直徑60x1200mm 外徑x長(zhǎng) |
| 爐管材質(zhì) | 高純石英管 |
| 工作溫度 | ≤1100℃ |
| 溫控系統(tǒng) | 人工智能PID儀表，自動(dòng)控制溫度 |
| 溫控精度 | ±1℃ (具有超溫及斷偶報(bào)警功能) |
| 加熱速率 | 建議 0~10℃/min |
| 加熱元件 | 高品質(zhì)電阻絲 |
| 真空系統(tǒng) | |
| 額定電壓 | 單相 220V 50Hz |
| 可通氣體 | 氮?dú)?、氬氣等惰性氣體 |
| 測(cè)溫元件 | 熱電偶測(cè)溫 |
| 殼體結(jié)構(gòu) | 雙層殼體結(jié)構(gòu)帶風(fēng)冷系統(tǒng) |
| 真空法蘭 | 帶有進(jìn)氣口，另一端帶控壓閥，氣動(dòng)泄壓閥和放氣閥。 |
| 供氣系統(tǒng) | 四路精密質(zhì)子流量計(jì)，通過(guò)觸屏來(lái)調(diào)節(jié)氣體流量 |
| 真空系統(tǒng) | 旋片泵，真空度在空爐冷態(tài)可達(dá)1pa， 真空計(jì)：進(jìn)口數(shù)顯真空計(jì)實(shí)時(shí)顯示真空度，精度高。 |
| 氣體定量系統(tǒng) | 整體可以控制壓力范圍-20kpa到20kpa(相對(duì)壓力) |
| 額定電壓 | 單相 220V 50Hz |
| 射頻電源（僅PECVD） | |
| 信號(hào)頻率 | 13.56 MHz±0.005% |
| 功率輸出范圍 | 500W |
| 最大反射功率 | 500W |
| 射頻輸出接口 | 50Ω,N-type,female |
| 功率穩(wěn)定度 | ±0.1% |
| 諧波分量 | ≤-50dbc |
| 供電電壓 | 單相交流（187V-253V） 頻率50/60HZ |
| 整機(jī)效率 | >=70% |
| 功率因素 | >=90% |
| 冷卻方式 | 強(qiáng)制風(fēng)冷 |
| 型號(hào) | 爐管直徑x加熱區(qū)長(zhǎng)度 | 爐管長(zhǎng)度（mm） | 功率(kW) | 最高溫度 | 氣體控制 | 真空度 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| BR-CVD-60 | φ60×400mm | 1200 | 3 | 1200℃ | 3路 | 10Pa/7x10-3Pa |
| BR-CVD-80 | φ80×400mm | 1200 | 4 | 1200℃ | 3路 | 10Pa/7x10-3Pa |
| BR-CVD-100 | φ80×400mm | 1200 | 6 | 1200℃ | 3路 | 10Pa/7x10-3Pa |
| 型號(hào) | 爐管直徑x加熱區(qū)長(zhǎng)度 | 功率(kW) | 最高溫度 | 頻率 | 功率 | 氣體控制 | 真空度 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| BR-PECVD-60 | φ60×450mm | 4 | 1200℃ | 13.56MHz±0.005% | 300-500W | 3路 | 10Pa/7x10-3Pa |
| BR-PECVD-80 | φ80×450mm | 5 | 1200℃ | 3路 | 10Pa/7x10-3Pa | ||
| BR-PECVD-100 | φ100×450mm | 7 | 1200℃ | 3路 | 10Pa/7x10-3Pa |
